[发明专利]照明光学系统、曝光装置以及产品的制造方法有效
申请号: | 201911333037.5 | 申请日: | 2019-12-23 |
公开(公告)号: | CN111381455B | 公开(公告)日: | 2023-04-28 |
发明(设计)人: | 中山谅;小林大辅 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 许海兰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及照明光学系统、曝光装置以及产品的制造方法,提供一种有益于使与照明模式对应的能量密度的光入射到光学积分器的技术。使用来自光源的光对被照明面进行照明的照明光学系统包括:生成部,使来自光源的光衍射,将多个种类的光强度分布中选择出的光强度分布生成于光瞳面;光学积分器,配置于生成部与被照明面之间的光路上;及光透射部件,配置于生成部与光学积分器之间的光路上,多个种类的光强度分布包括光瞳面处的分布形状相互不同的第1光强度分布和第2光强度分布,光透射部件包括在第1光强度分布生成时和第2光强度分布生成时光共同地透射的第1区域和第1区域以外的第2区域,第1区域包括光的发散程度比第2区域高的发散部。 | ||
搜索关键词: | 照明 光学系统 曝光 装置 以及 产品 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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