[发明专利]一种半导体基片用声光磁复合抛光装置及抛光方法在审
| 申请号： | 201911336780.6 | 申请日： | 2019-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN110948293A | 公开（公告）日： | 2020-04-03 |
| 发明（设计）人： | 潘继生;卓志佳;阎秋生 | 申请（专利权）人： | 广东工业大学 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B1/04;H01L21/67;H01L21/304 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 王锦霞 |
| 地址： | 510060 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及超精密加工的技术领域，更具体地，涉及一种半导体基片用声光磁复合抛光装置及抛光方法，包括磁流变抛光组件、催化剂添加组件、光催化组件以及兆声波催化组件，磁流变抛光组件包括第一驱动电机、抛光轴以及抛光盘，抛光轴与第一驱动电机连接且抛光轴可伸入至抛光盘内侧，抛光盘内盛装有磁流变液、抛光盘下方设有在抛光盘内形成磁场的电磁组件、抛光盘的下部连接有驱动抛光盘旋转的驱动组件，催化剂添加组件与抛光盘连通，光催化组件设于抛光盘旁侧，兆声波催化组件与抛光盘连接。本发明向磁流变液内添加催化剂，配合光催化组件及兆声波催化组件，磁流变机械抛光与化学氧化腐蚀作用同时进行，具有较好的加工效率和加工质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 基片用 声光 复合 抛光 装置 方法 | ||
【主权项】：
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