[发明专利]一种低粗糙度MLCC制程用离型膜基膜及其制备方法在审
| 申请号： | 201911336964.2 | 申请日： | 2019-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN111873587A | 公开（公告）日： | 2020-11-03 |
| 发明（设计）人： | 李明勇;王强;刘小东;辛嘉庆;孙艳斌;梁雪芬;程凡宝;李宇航;石少进 | 申请（专利权）人： | 江苏东材新材料有限责任公司 |
| 主分类号： | B32B27/36 | 分类号： | B32B27/36;B32B27/08;B32B27/06;C08L67/02;C08K3/36;C08J5/18 |
| 代理公司： | 上海市锦天城律师事务所 31273 | 代理人： | 何金花 |
| 地址： | 226600 江苏省南*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种低粗糙度MLCC制程用离型膜基膜及其制备方法，所述低粗糙度MLCC制程用离型膜基膜包括第一层、第二层和第三层，所述第三层包含50克的第三层改性聚酯基料及50克的第三层表面改性料，所述第三层改性聚酯基料包含1克的第一共聚酯及49克的第三层聚酯基料。本发明第三层包含第三层表面改性料，较好地解决薄膜表面粗糙度高的问题，相对于现有采用微米级无机粒子，本发明产品表面粗糙度降低到10nm～20nm。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 粗糙 mlcc 制程用离型膜基膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏东材新材料有限责任公司，未经江苏东材新材料有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201911336964.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
