[发明专利]挡板单元及包括该挡板单元的基板处理设备在审
| 申请号： | 201911346015.2 | 申请日： | 2019-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN112802730A | 公开（公告）日： | 2021-05-14 |
| 发明（设计）人： | 姜正贤 | 申请（专利权）人： | PSK有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 孙宝海 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明概念涉及一种挡板单元及包括该挡板单元的基板处理设备。用于处理前述基板的前述设备包括：外壳，前述外壳具有处理空间；支撑单元，前述支撑单元支撑前述基板于前述处理空间中；等离子体源，前述等离子体源自处理气体产生等离子体；及挡板单元，前述挡板单元安置于前述支撑单元上方。前述挡板单元包括挡板，前述挡板在其中形成有前述处理气体及/或前述等离子体流动通过的第一孔，且前述挡板具有形成于前述挡板的边缘区中的第二孔，前述第二孔中的每一者具有纵向方向，前述纵向方向在自上方检视时相对于前述挡板的径向方向倾斜。 | ||
| 搜索关键词： | 挡板 单元 包括 处理 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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