[发明专利]用于侧壁镀覆导电膜的封装工艺在审
申请号: | 201911347346.8 | 申请日: | 2019-12-24 |
公开(公告)号: | CN113035721A | 公开(公告)日: | 2021-06-25 |
发明(设计)人: | 金龙男;H·卡勒;刘俊锋;丁慧英;T·施密特 | 申请(专利权)人: | 维谢综合半导体有限责任公司 |
主分类号: | H01L21/56 | 分类号: | H01L21/56;H01L23/31 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 陈珊 |
地址: | 美国宾*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 公开了用于在无引线半导体封装上形成可润湿侧面的技术和装置。引线框组件可以包括多个引线(每个引线包括芯片表面和镀覆表面),以及布置在芯片表面上的集成电路芯片。每个引线的镀覆表面可以镀有电镀层。可以施加连接膜,并且可以通过一系列穿过多个引线中的每一个以及多个引线中的每个的电镀层直至连接膜或其一部分的深度的切口以产生通道来将引线框组件切单为独立的半导体封装。所述通道暴露出多个引线中的每个引线的侧壁。多个引线中的每个引线的引线侧壁可以镀有第二电镀层,并且可以去除连接膜。 | ||
搜索关键词: | 用于 侧壁 镀覆 导电 封装 工艺 | ||
【主权项】:
暂无信息
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造