[发明专利]光栅拼接校正方法、装置以及光栅拼接校正系统有效
| 申请号： | 201911354299.X | 申请日： | 2019-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN111060202B | 公开（公告）日： | 2021-08-20 |
| 发明（设计）人： | 糜小涛;杨国军;齐向东;张善文;于海利;于宏柱;丛敏;江思博;周敬萱 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | G01J3/45 | 分类号： | G01J3/45 |
| 代理公司： | 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 | 代理人： | 曹卫良 |
| 地址： | 130033 吉林省长春*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光栅拼接校正方法、装置以及光栅拼接校正系统。所述光栅拼接校正装置，应用于光栅拼接校正系统。所述校正方法包括：调节第一反射部和第二反射部中的一者或两者，使得干涉仪检测到具有相同的非零衍射级次并且具有不同入射角度的第一干涉场和第二干涉场；调节所述第二光栅，使得所述第一干涉场和所述第二干涉场的干涉条纹一致。本发明实施例能够通过反射部控制机构，调节反射部，使得干涉仪检测到具有相同的非零衍射级次并且具有不同入射角度的两个干涉场，然后光栅控制机构调节光栅，使得两个干涉场的干涉条纹一致，从而精确地校正了光栅拼接的误差。 | ||
| 搜索关键词： | 光栅 拼接 校正 方法 装置 以及 系统 | ||
【主权项】：
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