[发明专利]一种分布参数的吸透一体超材料结构在审

专利信息
申请号: 201911360001.6 申请日: 2019-12-25
公开(公告)号: CN110957583A 公开(公告)日: 2020-04-03
发明(设计)人: 张岭;陈志勇 申请(专利权)人: 武汉灵动时代智能技术股份有限公司
主分类号: H01Q15/00 分类号: H01Q15/00;H01Q17/00
代理公司: 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 代理人: 邓佳
地址: 434000 湖北省武汉*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公布了一种分布参数的吸透一体超材料结构包括超材料透射结构和周期性超材料结构,超材料透射结构与周期性超材料结构间隔平行相对设置;超材料透射结构包括金属板,金属板上设有环形孔;周期性超材料结构包括基板,基板的中心印刷有面电阻。本发明的一种分布参数的吸透一体超材料结构,通过基板上印刷面电阻形成周期性超材料结构,利用面电阻对入射电磁波的吸收特性,并结合采用金属板上设置环形孔形成分布式参数,使面电阻保持对电磁波的吸收能力的同时,具备在部分频段对电磁波的透射能力,复合上超材料结构的背板,实现对电磁波的吸透一体设计。
搜索关键词: 一种 分布 参数 一体 材料 结构
【主权项】:
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