[发明专利]一种目标检测方法、装置、稀疏阵列和成像设备有效
申请号: | 201911360879.X | 申请日: | 2019-12-25 |
公开(公告)号: | CN111077522B | 公开(公告)日: | 2023-07-04 |
发明(设计)人: | 杨明辉;吴亮;孙晓玮 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
主分类号: | G01S13/89 | 分类号: | G01S13/89;G01V8/00;G01V8/10 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫;贾允 |
地址: | 200050 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种目标检测方法、装置、稀疏阵列和成像设备,所述方法包括通过将源稀疏阵列的阵列单元部分替换或者全部替换为多个子阵列单元,得到目标稀疏阵列,在进行目标检测时调整子阵列单元的波束范围,使得子阵列单元的波束范围能够最大覆盖待检测目标。所述方法将稀疏阵列中的各个阵列单元划分为更小级别的子阵列单元,通过调节每个阵列单元的子阵列单元的波束增加了各个阵列单元波束的覆盖范围,从而提高了毫米波安检成像系统对非合作目标成像的分辨率。 | ||
搜索关键词: | 一种 目标 检测 方法 装置 稀疏 阵列 成像 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海微系统与信息技术研究所,未经中国科学院上海微系统与信息技术研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201911360879.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种具有高抗静电性能的抗静电柔软剂
- 下一篇:一种横剪生产线理料装置