[发明专利]半导体装置在审

专利信息
申请号: 201911364554.9 申请日: 2019-12-26
公开(公告)号: CN112436005A 公开(公告)日: 2021-03-02
发明(设计)人: 井野户秀和;高田修;寺田直纯;北原宏良 申请(专利权)人: 株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社
主分类号: H01L27/092 分类号: H01L27/092;H01L29/423
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 牛玉婷
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 实施方式提供电平移位电路能够长期间稳定地动作的半导体装置。实施方式的半导体装置具备增强型的第1~第6晶体管。上述第1以及上述第4晶体管为p沟道型。上述第2、第3、第5以及第6晶体管为n沟道型。上述第3晶体管的耐压比上述第2晶体管的耐压低。上述第6晶体管的耐压比上述第5晶体管的耐压低。上述第1晶体管、上述第2晶体管、以及上述第3晶体管串联连接在第1电源电位与比上述第1电源电位低的第2电源电位之间。上述第4晶体管、上述第5晶体管、以及上述第6晶体管也串联连接在上述第1电源电位与上述第2电源电位之间。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
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