[发明专利]一种光谱选择性辐射红外隐身材料及其制备方法有效
| 申请号： | 201911366650.7 | 申请日： | 2019-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN111158069B | 公开（公告）日： | 2022-01-04 |
| 发明（设计）人： | 刘东青;彭亮;程海峰 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军国防科技大学 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10;B32B9/00;B32B9/04;B32B15/04 |
| 代理公司： | 长沙朕扬知识产权代理事务所(普通合伙) 43213 | 代理人： | 魏龙霞 |
| 地址： | 410000 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光谱选择性辐射红外隐身材料，依次包括基底、氮化铝层和介质层；所述介质层由若干交替排列的介质层A和介质层B组成；所述介质层A的材料为锗、碲、硅中的任一种，所述介质层B的材料为硫化锌、硒化锌、氟化镁、氟化钡、氟化钙中的任一种。该材料的制备方法：(1)对基底进行清洗并干燥；(2)采用磁控溅射或流延法，在基底表面制备一层氮化铝层；(3)采用磁控溅射或电子束蒸发，在氮化铝层先沉积一层介质层A，再沉积一层介质B，重复交替沉积介质层A和介质层B，直至设计的层数，完成红外隐身材料的制备。本发明的光谱选择性辐射红外隐身材料，兼顾了低发射率与辐射散热的要求，对更好的实现红外隐身具有重要的意义。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光谱 选择性 辐射 红外 隐身 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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