[发明专利]间距调节装置、半导体设备及刻蚀工艺腔室有效
| 申请号： | 201911369559.0 | 申请日： | 2019-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN111081523B | 公开（公告）日： | 2022-12-16 |
| 发明（设计）人： | 马晓 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京汉之知识产权代理事务所(普通合伙) 11479 | 代理人： | 陈敏 |
| 地址： | 430074 湖北省武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种间距调节装置、半导体设备及刻蚀工艺腔室，间距调节装置包括：间距调节模块，其用于使第一部件与第二部件之间保持间距，并根据设定间距值调节间距；间距调节模块包括用于使第一部件与第二部件之间发生相对位移的驱动单元和用于使驱动单元连接至第一部件或第二部件中任意一方的连接单元；驱动单元包括马达或气缸；连接单元包括连接杆与连接件；连接间距调节模块的控制模块，其用于设定间距值，并控制间距调节模块调节间距。本发明通过控制模块实时控制间距调节模块对第一部件与第二部件之间的间距进行调节，实现了对刻蚀工艺腔室中工艺气体喷淋头与晶圆静电卡盘间距的实时且连续的调节，节省了设备维护成本，提高了工艺的可调性。 | ||
| 搜索关键词： | 间距 调节 装置 半导体设备 刻蚀 工艺 | ||
【主权项】：
暂无信息
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