[发明专利]一种半导体装置及其制作方法在审
申请号: | 201911369797.1 | 申请日: | 2019-12-26 |
公开(公告)号: | CN113053833A | 公开(公告)日: | 2021-06-29 |
发明(设计)人: | 吴至强;何政翰;谢士锴;林立松 | 申请(专利权)人: | 财团法人工业技术研究院 |
主分类号: | H01L23/14 | 分类号: | H01L23/14;H01L23/367;H01L23/488 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 张燕华 |
地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明提出一种半导体装置,包括绝缘导热基板、金属线路层以及散热元件。金属线路层包含多个结合结构,该结合结构位于绝缘导热基板与散热元件之间,散热元件藉由焊料接合结构连接于金属线路层,焊料接合结构包覆结合结构。此外,一种半导体装置的制作方法亦被提出。 | ||
搜索关键词: | 一种 半导体 装置 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
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