[发明专利]半导体设备的介质窗的清洗方法以及相关半导体加工设备

摘要

一种半导体设备的介质窗的清洗方法,该半导体设备包括：反应腔室、介质窗、感应线圈、清洗电极、射频源组件以及阻抗调节组件。射频源组件用于向感应线圈以及清洗电极加载射频功率；阻抗调节组件与清洗电极电连接，并与射频源的输出端可通断地连接。该清洗方法包括：通过调节阻抗调节组件使得射频源组件的输出端与清洗电极之间的阻抗大于第一预设值，以使射频功率加载于感应线圈之上实现反应腔室内等离子体起辉；以及通过调节阻抗调节组件使得阻抗小于第一预设值，以使射频功率加载于清洗电极上，以维持等离子体实现对介质窗进行清洗。