[发明专利]一种N型单晶硅片的制备方法在审
申请号: | 201911371929.4 | 申请日: | 2019-12-27 |
公开(公告)号: | CN111180550A | 公开(公告)日: | 2020-05-19 |
发明(设计)人: | 李吉;夏利鹏;赵朋松;顾生刚;杨二存;赵本定;刘海金;赵小平 | 申请(专利权)人: | 天津爱旭太阳能科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0236;H01L31/068 |
代理公司: | 广州知友专利商标代理有限公司 44104 | 代理人: | 高文龙 |
地址: | 300400 天津市北辰区天津北辰*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明公开了一种N型单晶硅片的制备方法,包括:选取N型单晶硅片,对硅片进行碱制绒,使得所述N型单晶硅片衬底的正背表面形成金字塔状的减反射绒面;在减反射绒面上进行二次制绒;对二次制绒面进行清洗;将硅片进行硼扩散,在硅片表面形成P型层;去除硅片边缘PN结;去除硅片正面硼硅玻璃;沉积硅片背面氧化铝钝化层;在硅片的正面和背面镀氮化硅反射膜;在硅片的正面和背面印刷银栅线;高温快速烧结。该制备方法能满足不同厚度硅片的需求。 | ||
搜索关键词: | 一种 单晶硅 制备 方法 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的