[发明专利]一种N型单晶硅片的制备方法在审

专利信息
申请号: 201911371929.4 申请日: 2019-12-27
公开(公告)号: CN111180550A 公开(公告)日: 2020-05-19
发明(设计)人: 李吉;夏利鹏;赵朋松;顾生刚;杨二存;赵本定;刘海金;赵小平 申请(专利权)人: 天津爱旭太阳能科技有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/0236;H01L31/068
代理公司: 广州知友专利商标代理有限公司 44104 代理人: 高文龙
地址: 300400 天津市北辰区天津北辰*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明公开了一种N型单晶硅片的制备方法,包括:选取N型单晶硅片,对硅片进行碱制绒,使得所述N型单晶硅片衬底的正背表面形成金字塔状的减反射绒面;在减反射绒面上进行二次制绒;对二次制绒面进行清洗;将硅片进行硼扩散,在硅片表面形成P型层;去除硅片边缘PN结;去除硅片正面硼硅玻璃;沉积硅片背面氧化铝钝化层;在硅片的正面和背面镀氮化硅反射膜;在硅片的正面和背面印刷银栅线;高温快速烧结。该制备方法能满足不同厚度硅片的需求。
搜索关键词: 一种 单晶硅 制备 方法
【主权项】:
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