[发明专利]一种优化的化学气相沉积工艺有效
申请号: | 201911375201.9 | 申请日: | 2019-12-27 |
公开(公告)号: | CN111020536B | 公开(公告)日: | 2022-05-24 |
发明(设计)人: | 彭雨晴;信吉平 | 申请(专利权)人: | 清华大学无锡应用技术研究院 |
主分类号: | C23C16/52 | 分类号: | C23C16/52;G05D27/02 |
代理公司: | 无锡盛阳专利商标事务所(普通合伙) 32227 | 代理人: | 顾吉云;黄莹 |
地址: | 214000 江苏省无锡*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种优化的化学气相沉积工艺,包括以下步骤:(1)将沉积炉的炉内空间划分成多个控制空间;(2)采集各控制空间内的实际温度值和实际流量值;(3)计算出实际与理论的差值;(4)根据差值进行温度补偿和流量补偿。本发明利用数字孪生技术,对沉积炉的内腔分空间建造数字孪生模型,达到生产时,分空间实时监控沉积炉内温度和影响沉积的物质的流量,实现整个温度场及流体场控制过程的可视化,通过对采集的实际温度和影响沉积的物质的实际流量与理论数据融合,得到误差补偿结果,以此分空间进行温度和流量补偿,从而实现了保证沉积炉内温度场和流体场分布均匀。 | ||
搜索关键词: | 一种 优化 化学 沉积 工艺 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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