[发明专利]X光光栅及其制备方法有效
| 申请号： | 201911379879.4 | 申请日： | 2019-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN113050210B | 公开（公告）日： | 2023-03-24 |
| 发明（设计）人： | 段晓东;张少邦 | 申请（专利权）人： | 段晓东;张少邦 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 上海波拓知识产权代理有限公司 31264 | 代理人： | 齐云娜 |
| 地址： | 上海市浦东新区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本申请提供一种X光光栅及其制备方法，通过采用蒸镀或溅镀沉积方法，在类金刚石或石墨等可透X光的透光基底上形成由类金刚石材质的透光薄膜和钨材质的不透光材质交替形成的沉积结构，经过电火花切割，将切割下的细料顺次排列并粘结，形成第一X光光栅组件。采用类似方法，形成第二X光光栅组件后，将两个组件错位贴合。通过控制该透光薄膜与不透光薄膜的厚度，以及该透光基底与该沉积结构的厚度，可以形成大尺寸、高精度的X光光栅。 | ||
| 搜索关键词： | 光栅 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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