[发明专利]光学模型的优化方法以及光学邻近修正方法

摘要

一种光学模型的优化方法以及光学邻近修正方法，光学模型的优化方法包括：提供光掩膜基板和初始光学模型；确定光掩膜基板中的缺陷的位置和尺寸；获取任一缺陷位置处和正常位置处的光强比，用于作为光强修正因子，光强修正因子与所对应的缺陷的位置和尺寸相关；将光强修正因子添加至初始光学模型中，获得光学模型。本发明的光强修正因子能够表征由缺陷的存在所引起的实际光强的变化，从而使得光学模型的精度更高，光学模型用于建立光学邻近修正模型，因此，能够根据实际光强建立较佳的光学邻近修正模型，以弥补光掩膜基板的缺陷所带来的影响，进而提高光学邻近修正的精准度。