[发明专利]一种半导体晶体生长装置在审

专利信息
申请号: 201911381171.2 申请日: 2019-12-27
公开(公告)号: CN113046833A 公开(公告)日: 2021-06-29
发明(设计)人: 邓先亮;沈伟民;王刚;费璐;刘大海 申请(专利权)人: 上海新昇半导体科技有限公司
主分类号: C30B30/04 分类号: C30B30/04;C30B29/06;C30B15/00
代理公司: 北京市磐华律师事务所 11336 代理人: 高伟
地址: 201306 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种半导体晶体生长装置。包括:坩埚,用以容纳硅熔体;和水平磁场施加装置,用以产生水平磁场;其中,所述水平磁场施加装置包括位于所述坩埚的相对的两侧的至少两个单线圈超导磁体,每一个所述单线圈超导磁体包括沿着所述水平磁场的方向绕制的线圈,以使所述单线圈超导磁体产生串联的所述水平磁场水平穿过所述坩埚内的硅熔体。根据本发明的半导体晶体生长装置,使单线圈超导磁体中线圈产生的水平磁场串联穿过坩埚内的硅熔体,串联的磁场使得磁场发生装置有较小的磁漏,提升磁场发生装置的电磁转换效率,减小了半导体晶体生长装置的制造和使用成本。同时,采用本发明,线圈绕制简单,也大大降低了半导体晶体生长装置的制造成本。
搜索关键词: 一种 半导体 晶体生长 装置
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