[发明专利]下电极组件、等离子体处理装置及其工作方法有效

专利信息
申请号: 201911381446.2 申请日: 2019-12-27
公开(公告)号: CN113053715B 公开(公告)日: 2023-03-31
发明(设计)人: 林雅萍;左涛涛;蔡楚洋 申请(专利权)人: 中微半导体设备(上海)股份有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 上海元好知识产权代理有限公司 31323 代理人: 包姝晴;张静洁
地址: 201201 上海市浦东新*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种下电极组件、等离子体处理装置及其工作方法,其中,所述下电极组件包括:基座,具有预设工作温度,其内具有冷却通道,冷却通道包括冷却输入端和冷却输出端;冷却气体,其液化温度低于所述预设工作温度;冷却装置,用于对冷却气体进行降温;第一气体输送管道,用于将冷却气体输送至冷却装置;第二气体输送管道,与冷却输入端连通,用于将降温后的冷却气体输送入所述冷却通道内,降温后的所述冷却气体对基座进行降温以达到预设工作温度;第三气体输送管道,与冷却输出端连通,用于将对基座降温后的所述冷却气体输出。利用所述下电极组件对基座进行降温时,有利于降低冷却气体对接触部件造成损伤,提高下电极组件的密封性。
搜索关键词: 电极 组件 等离子体 处理 装置 及其 工作 方法
【主权项】:
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