[发明专利]一种提高激光陀螺腔体内孔均匀性的化学抛光方法有效
申请号: | 201911381704.7 | 申请日: | 2019-12-28 |
公开(公告)号: | CN111155093B | 公开(公告)日: | 2021-08-13 |
发明(设计)人: | 王潺;聂俊卿;杨长城;熊长新;刘军汉 | 申请(专利权)人: | 中国船舶重工集团公司第七一七研究所 |
主分类号: | C23F3/00 | 分类号: | C23F3/00 |
代理公司: | 武汉蓝宝石专利代理事务所(特殊普通合伙) 42242 | 代理人: | 谢洋 |
地址: | 430000 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明涉及一种提高激光陀螺腔体内孔均匀性的化学抛光方法,其包括如下步骤:将待抛光激光陀螺腔体的非腐蚀区域粘贴胶带,形成预保护腔体;将所述预保护腔体悬置于腐蚀液中并确保待腐蚀内孔充分暴露,将总腐蚀时间作为一个腐蚀周期,每隔1/4腐蚀周期,将腔体按照同一时针方向旋转90°,得腐蚀腔体;其中,所述腐蚀液为氢氟酸/硝酸水溶液、氢氟酸/盐酸水溶液或氢氟酸/硫酸水溶液;将所述腐蚀腔体置于中和液中浸洗,再水洗;干燥,即得。采用该化学抛光方法无需采用耐腐蚀泵驱动抛光液流动的方式,即可有效解决孔壁表面因溶液梯度造成的不均匀现象,确保内孔孔壁腐蚀状态的一致性,满足激光陀螺腔体放电回路的高精度要求。 | ||
搜索关键词: | 一种 提高 激光 陀螺 体内 均匀 化学抛光 方法 | ||
【主权项】:
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