[发明专利]倒四棱锥台/四棱锥形状减反微纳结构的制造方法及系统有效
| 申请号： | 201911386649.0 | 申请日： | 2019-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN111055009B | 公开（公告）日： | 2020-11-17 |
| 发明（设计）人： | 李明;李珣;刘红军 | 申请（专利权）人： | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | B23K26/00 | 分类号： | B23K26/00;B23K26/046;B23K26/073 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人： | 王少文 |
| 地址： | 710119 陕西省西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 一种倒四棱锥台/四棱锥形状减反微纳结构的制造方法及系统，系统包括飞秒激光器、光路传输系统、矩形平顶整形单元和高倍率聚焦显微物镜。先根据系统的最优制造焦深，将倒四棱锥台/四棱锥形状分为n层，计算每一层的层面尺寸，调整系统使其焦面位于倒四棱锥台/四棱锥第1层的h/2位置处，用整形汇聚后的矩形平顶光，对该层加工；依次类推直至第n层。本发明解决现有技术控形能力差及加工能力受限的问题，采用按层面尺寸依次加工，得到深度在百微米级的减反微纳结构，提高了减反微纳结构的减反增透率；通过光斑整形按层面尺寸依次加工，提高了激光微纳加工的控形能力；自上而下加工，加工深径比更大。 | ||
| 搜索关键词： | 棱锥 形状 减反微纳 结构 制造 方法 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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