[发明专利]一种化学气相沉积装置

摘要

本发明公开了一种化学气相沉积装置，包括反应室，所述反应室内设置有遮蔽组件，所述遮蔽组件沿周长方向与所述反应室的内壁连接；所述遮蔽组件至少一个边角处设置有缺口，缺口与所述反应室的内壁之间形成气流通道本发明中所述遮蔽组件除所述缺口部位，其他部位均与所述反应室的内壁密封连接，从而使所述遮蔽组件与所述反应室的内壁连接的部位均对气流起到导向作用，将气流引导至气流通道，而气流通道覆盖所述遮蔽组件和所述反应室的边角，所述遮蔽组件和所述反应室的边角处有充分的蚀刻气体流过，以使得所述遮蔽组件和所述反应室的边角被充分的清洗，从而避免所述遮蔽组件和所述反应室的边角残留粒子源。