[发明专利]一种掩模工艺用多层上料盒在审
| 申请号： | 201911390366.3 | 申请日： | 2019-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN110941137A | 公开（公告）日： | 2020-03-31 |
| 发明（设计）人： | 刘浩;刘维维;杨东海;杨长华;汪志得;张月圆;韦庆宇;莫金圻;薛文卿;顾梦星 | 申请（专利权）人： | 无锡中微掩模电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/68 | 分类号： | G03F1/68;G03F1/66 |
| 代理公司： | 连云港联创专利代理事务所(特殊普通合伙) 32330 | 代理人： | 谷金颖 |
| 地址： | 214000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩模工艺用多层上料盒，包括掩模工艺用上料盒盒体，所述掩模工艺用上料盒盒体的前表面设置有盒体挡片，且所述掩模工艺用上料盒盒体的内侧分别开设有两个下掩膜版放置腔和两个上掩膜版放置腔，每个所述下掩膜版放置腔均位于上掩膜版放置腔的正下方。本发明在掩模工艺用上料盒盒体的内侧开设有两个下掩膜版放置腔和两个上掩膜版放置腔，不仅能放置两种不同型号的版，而且能够同时放置多片掩模版，简单实用，安全可靠。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 工艺 多层 上料盒 | ||
【主权项】：
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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