[发明专利]Mini LED芯片制备方法在审

专利信息
申请号: 201911390804.6 申请日: 2019-12-30
公开(公告)号: CN111106210A 公开(公告)日: 2020-05-05
发明(设计)人: 彭翔;封波;赵汉民 申请(专利权)人: 晶能光电(江西)有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 330096 江西省*** 国省代码: 江西;36
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摘要: 发明提供了一种Mini LED芯片制备方法,包括:S1在硅衬底表面依次制备GaN结构和p型欧姆接触层;GaN结构中包括n型GaN层、量子阱结构及p型GaN层;S2于N电极处对p型欧姆接触层和GaN结构进行蚀刻直至n型GaN层;S3对管芯边缘的GaN结构进一步蚀刻直至硅衬底;S4在步骤S3得到的结构表面生长绝缘层;S5分别对n型GaN层和p型欧姆接触层表面的绝缘层进行蚀刻形成N极孔和P极孔,并在N极孔和P极孔上分别形成N‑Pad层和P‑Pad层;S6于步骤S5得到的结构表面涂覆支撑层,覆盖N‑Pad层和P‑Pad层;S7去除硅衬底并转移至支撑膜上;S8对支撑层进行减薄直至N‑Pad层和P‑Pad层;S9切割得到单颗Mini LED芯片,完成Mini LED芯片的制备。有效解决现有Mini LED芯片制备过程中晶圆片易破片等技术问题。
搜索关键词: mini led 芯片 制备 方法
【主权项】:
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