[发明专利]一种用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液在审
| 申请号： | 201911402493.0 | 申请日： | 2019-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN113130291A | 公开（公告）日： | 2021-07-16 |
| 发明（设计）人： | 王雷雷;何华锋;王晨;郁夏盈;李星;史经深;孙金涛 | 申请（专利权）人： | 安集微电子科技（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/02 | 分类号： | H01L21/02;C11D1/00;C11D1/12 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭;王芳 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新区华东路*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液，包括碱、去离子水、阴离子表面活性剂、以及非离子表面活性剂。本发明的清洗液可以用于清洗在万级环境内安装、拆卸、储存的晶圆清洗刷，可以快速洗去晶圆清洗刷上可转移到晶圆表面的污染物。对人体腐蚀危害小。清洗液用量少，不需要加热，常温下可以快速洗去刷子上可转移到晶圆表面的污染物。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 清洗 晶圆清 洗刷 | ||
【主权项】：
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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