[发明专利]一种制备周期性光学超晶格的方法有效
| 申请号： | 201911410876.2 | 申请日： | 2019-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN111025432B | 公开（公告）日： | 2020-12-01 |
| 发明（设计）人： | 尹志军;叶志霖;许志城 | 申请（专利权）人： | 南京南智先进光电集成技术研究院有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/00 | 分类号： | G02B1/00;G02F1/355 |
| 代理公司： | 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 | 代理人： | 逯长明;许伟群 |
| 地址： | 210000 江苏省南京市江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本申请提供一种制备周期性光学超晶格的方法，该方法中，对铁电体晶体进行处理，获得周期性的钛扩散结构；在未扩散区域套刻周期性的目标电极，形成目标基片；对所述目标基片施加电场，则形成周期性光学超晶格。本申请提供的方法中，目标电极套刻在未扩散区域，且目标电极的宽度小于未扩散区域的宽度，在对目标基片施加电场时，目标电极对应的区域发生畴翻转，与目标电极相邻的钛扩散区域能够抑制该区域中畴的横向扩展，从而能够制备线宽较小的周期性光学超晶格。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制备 周期性 光学 晶格 方法 | ||
【主权项】：
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