[发明专利]聚酰亚胺薄膜及其制备方法及射频挠性印制电路的基膜有效
| 申请号： | 201911415112.2 | 申请日： | 2019-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN110951099B | 公开（公告）日： | 2020-09-25 |
| 发明（设计）人： | 曾彩萍;付高辉;刘贺;曹义;杨继明;金鹰;薛驰 | 申请（专利权）人： | 中天电子材料有限公司;江苏中天科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C08J5/18 | 分类号： | C08J5/18;C08J7/00;C08G73/10;H05K1/03;C08L79/08 |
| 代理公司： | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人： | 徐丽;余剑文 |
| 地址： | 226010 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： |
一种聚酰亚胺薄膜的制备方法，包括制备聚酰胺酸树脂溶液，过滤后待用，聚酰胺酸树脂溶液的固含量控制在15～35wt.％范围内，粘度控制在10～45x10 |
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| 搜索关键词： | 聚酰亚胺 薄膜 及其 制备 方法 射频 印制电路 | ||
【主权项】：
暂无信息
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