[发明专利]一种T型光刻图形的根部腔壁角度调整及T型栅制作方法在审

专利信息
申请号: 201911416568.0 申请日: 2019-12-31
公开(公告)号: CN111430227A 公开(公告)日: 2020-07-17
发明(设计)人: 张亦斌 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第五十五研究所
主分类号: H01L21/28 分类号: H01L21/28;G02B5/18
代理公司: 南京君陶专利商标代理有限公司 32215 代理人: 严海晨
地址: 210016 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种基于电子束负胶的T型光刻图形的根部腔壁角度调整方法及T型栅制作方法;其步骤包括:在制备器件所需的外延层表面旋涂负性电子束光刻胶,用电子束直写所需T型栅两侧区域并显影获得正梯形的栅脚结构,通过控制电子束直写计量调节栅脚图形根部腔壁的角度。然后,利用正性电子束光刻胶直写栅帽,或者通过传统光刻曝光光刻栅帽,形成T型形貌,再蒸发金属后剥离形成T型金属电极。本发明采用电子束负胶不仅能够获得正梯形的栅脚结构,显著提高栅的稳定性,同时由于该方法不需要直写栅终端的大面积区域,有效提高直写速度;该工艺在制作氮化镓基、铟磷基、砷化镓基等材料的高频器件工艺中具有重要意义。
搜索关键词: 一种 光刻 图形 根部 角度 调整 制作方法
【主权项】:
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