[发明专利]一种抛光设备在审
| 申请号： | 201911422743.7 | 申请日： | 2019-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN110962023A | 公开（公告）日： | 2020-04-07 |
| 发明（设计）人： | 杨兆明;颜凯;中原司 | 申请（专利权）人： | 浙江芯晖装备技术有限公司 |
| 主分类号： | B24B27/00 | 分类号： | B24B27/00;B24B29/02;B24B53/007;B24B41/00;B24B57/02;B08B3/04 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 胡彬 |
| 地址： | 314400 浙江省嘉兴市海宁市海*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及抛光技术领域，公开一种抛光设备。所述抛光设备包括工作台、抛光盘、抛光盘清洗器、转盘、抛光头组件和传送机构。工作台上设置有一个上下料工位和多个相分隔的抛光工位。每个抛光工位均设置有一个抛光盘和一个抛光盘清洗器。转盘可转动地设置在工作台的上方。抛光头组件沿竖直方向可升降地设置在转盘上，多组抛光头组件沿转盘的周向均匀分布。转盘能够带动多组抛光头组件转动，以使其中一组抛光头组件与上下料工位相对并吸附位于上下料工位的待抛光的晶圆，同时使其余组抛光头组件与抛光盘一一相对，抛光头组件能够与抛光盘相配合对晶圆进行抛光。该抛光设备能够有效提高抛光良率和抛光效率，且适用范围广。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 抛光 设备 | ||
【主权项】：
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