[实用新型]反应溅射系统腔体进气装置

摘要

本实用新型涉及一种反应溅射系统腔体进气装置，包括底座和进气管，底座安装在反应溅射系统的真空腔体上方，其中，还包括通气圆环和八个气嘴。本实用新型的优点在于：结构简单，制造和改装的成本低廉，通过改变进气方式，有效地降低气体分布不均匀对工艺的影响，解决特殊工艺对于镀膜均匀性的要求。

主权项

1.一种反应溅射系统腔体进气装置，包括底座和进气管，底座安装在反应溅射系统的真空腔体上方，其特征在于：还包括通气圆环和八个气嘴，所述的底座左、右两侧中间对称设置有左、右底座进气口，底座中间内圈处设有环形凹槽，环形凹槽左、右两侧对称设置有左、右底座出气口，左、右底座进气口分别和左、右底座出气口两两对应连通，所述的进气管分为左、右进气支管，左、右进气支管分别和左、右底座进气口连通；所述的通气圆环的外形与环形凹槽相契合，通气圆环左、右两侧对称设置有左、右圆环进气口，左、右圆环进气口分别和对称设置的左、右进气槽连通，左进气槽的两端分别和左上、左下出气槽连通，右进气槽的两端分别和右上、右下出气槽连通，每个出气槽的两端分别和两个圆环出气口连通，八个圆环出气口均布在通气圆环内侧，每个圆环出气口均安装有气嘴；所述的通气圆环固定在底座上并嵌入环形凹槽内，左、右底座出气口与左、右圆环进气口相互重合，通气圆环与环形凹槽的接触面完全贴合形成密封，进气槽和出气槽形成密封的气体通路，气体从进气管注入，流经底座和通气圆环，分别自八个气嘴排出，所行经的八个气路的路径长度相同。