[实用新型]一种表底精密抛光系统有效
| 申请号： | 201920112077.6 | 申请日： | 2019-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN209408198U | 公开（公告）日： | 2019-09-20 |
| 发明（设计）人： | 李铁球;余长春;吴国彬 | 申请（专利权）人： | 金三维实业（深圳）有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;B24B41/06;B24B41/02;B24B47/12 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518122 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种表底精密抛光系统，包括：夹持机构、打磨机构、推进机构，所述打磨机构设置在所述夹持机构一旁；所述推进机构包括上盘和下盘，所述打磨机构设置在所述上盘上，所述上盘底部设置有连接柱，所述连接柱上套设有滚轴，并插接在所述下盘上，所述下盘上设置有至少一处缺口，所述缺口上转动连接有内杆，所述内杆外螺纹装配有套管，所述套管顶部设置有挡块。本实用新型可保证在抛光过程中，打磨机构不会因转轴的转动效果而是上盘发生转动。 | ||
| 搜索关键词： | 打磨机构 上盘 下盘 本实用新型 夹持机构 精密抛光 推进机构 连接柱 内杆 转动 抛光过程 套管顶部 转动连接 外螺纹 套管 插接 挡块 滚轴 上套 转轴 装配 保证 | ||
【主权项】：
1.一种表底精密抛光系统，包括夹持机构（5）和打磨机构(4)，其特征在于：所述打磨机构(4)设置在所述夹持机构（5）一旁；推进机构(1)，所述推进机构(1)包括上盘(14)和下盘(15)，所述打磨机构(4)设置在所述上盘(14)上，所述上盘(14)底部设置有连接柱(141)，所述连接柱(141)上套设有滚轴(2)，并插接在所述下盘(15)上，所述下盘(15)上设置有至少一处缺口(151)，所述缺口(151)上转动连接有内杆(3)，所述内杆(3)外螺纹装配有套管(31)，所述套管(31)顶部设置有挡块(311)。
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