[实用新型]一种溅射气体均匀喷洒的磁控溅射靶源

摘要

本实用新型公开了一种溅射气体均匀喷洒的磁控溅射靶源，包括靶材、喷气小孔和狭缝，所述靶材的上方设置有磁控溅射区域，且磁控溅射区域的左右两侧均安装有外壳，所述喷气小孔设置于磁控溅射区域的内表面，所述狭缝连接于三级储气环和二级储气环的中间位置。该溅射气体均匀喷洒的磁控溅射靶源设置狭缝连通二级储气环和一级储气环，同理狭缝也连通着剩下的几个储气环，由于狭缝截面积小于一级储气环的截面积，因此大量溅射气体存储于一级储气环内，当一级储气环内的气体压强升高后，气体将沿着圆周型狭缝进入到二级储气环内，同理其他几个储气环中也是如此，这样的设计可保持通向磁控溅射区域的气体的气压均匀，从而保证溅射气体均匀。

主权项

1.一种溅射气体均匀喷洒的磁控溅射靶源，包括靶材(1)、喷气小孔(10)和狭缝(11)，其特征在于：所述靶材(1)的上方设置有磁控溅射区域(2)，且磁控溅射区域(2)的左右两侧均安装有外壳(3)，所述外壳(3)的内部设置有五级储气环(4)，且五级储气环(4)的下端连接有四级储气环(5)，所述四级储气环(5)的下端安装有三级储气环(6)，且三级储气环(6)的下端连接有二级储气环(7)，所述二级储气环(7)的下端安装有一级储气环(8)，且一级储气环(8)的下方连接有进气总管(9)，所述喷气小孔(10)设置于磁控溅射区域(2)的内表面，所述狭缝(11)连接于三级储气环(6)和二级储气环(7)的中间位置。