[实用新型]一种矽晶片切割装置有效
申请号: | 201920120891.2 | 申请日: | 2019-01-23 |
公开(公告)号: | CN209461420U | 公开(公告)日: | 2019-10-01 |
发明(设计)人: | 李翔 | 申请(专利权)人: | 佛山市南海益晶科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/687;H01L21/677 |
代理公司: | 武汉明正专利代理事务所(普通合伙) 42241 | 代理人: | 张伶俐 |
地址: | 528000 广东省佛山*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种矽晶片切割装置,立梁固定于底板的其中一侧边,立梁的上端设置有两个间隔分布的第一导轨,第一滑块滑动连接于所述第一导轨,第一滑块的上部设置有两个间隔分布的第二导轨,第二滑块滑动连接于第二导轨,激光切割器安装于第二滑块的下部;底板上安装有伺服电机,伺服电机的输出端安装有吸盘组件,吸盘组件上设置有多个吸盘,负压泵连通于吸盘组件。本实用新型有益效果:本实用新型第一滑块沿第一导轨纵向移动,第二滑块沿第二导轨横向移动,使得激光切割器多方位移动,便于切割,伺服电机带动矽晶片旋转,转换方向,负压泵为吸盘组件提供负压力,吸盘用于吸住矽晶片起到固定作用。 | ||
搜索关键词: | 吸盘组件 矽晶片 导轨 本实用新型 第二滑块 第一滑块 伺服电机 底板 吸盘 激光切割器 滑动连接 间隔分布 切割装置 负压泵 立梁 多方位移动 导轨横向 导轨纵向 固定作用 上端 负压力 输出端 移动 吸住 连通 切割 转换 | ||
【主权项】:
1.一种矽晶片切割装置,其特征在于:包括底板(1)、立梁(2)、第一导轨(5)、第二导轨(6)、第一滑块(3)、第二滑块(4)、负压泵和激光切割器(7),所述立梁(2)固定于所述底板(1)的其中一侧边,所述立梁(2)的上端设置有两个间隔分布的所述第一导轨(5),所述第一滑块(3)滑动连接于所述第一导轨(5),所述第一滑块(3)的上部设置有两个间隔分布的所述第二导轨(6),所述第二滑块(4)滑动连接于所述第二导轨(6),所述激光切割器(7)安装于所述第二滑块(4)的下部;所述底板(1)上安装有伺服电机(8),所述伺服电机(8)的输出端安装有吸盘组件(9),所述吸盘组件(9)上设置有多个吸盘(10),所述负压泵连通于所述吸盘组件(9)。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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