[实用新型]一种小尺寸掩膜版居中性测量检查装置有效

专利信息
申请号: 201920125558.0 申请日: 2019-01-24
公开(公告)号: CN209215869U 公开(公告)日: 2019-08-06
发明(设计)人: 林伟;刘玉闯 申请(专利权)人: 成都路维光电有限公司
主分类号: G03F9/00 分类号: G03F9/00
代理公司: 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 代理人: 胡晓丽
地址: 610000 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 实用新型公开了小尺寸掩膜版居中性测量检查装置,包括设于光刻机平台上的定位件和三组传感器,所述定位件上设有L型直角卡槽与掩膜版的直角边适配接触,其中一组传感器用于测量掩膜版的直角顶点位置信息,另外两组传感器分别用于测量掩膜版在沿L型直角卡槽的两条直角边延伸方向上的移动位置信息。本实用新型适用于掩膜版制作技术领域,尤其涉及大尺寸光刻机制作小尺寸掩膜版上,扩大大尺寸光刻机的应用范围,在大尺寸光刻机上设计一种小板居中性检查装置,检查小尺寸掩膜版的位置和居中性,有效避免居中性偏移现象。
搜索关键词: 掩膜版 检查装置 测量 本实用新型 组传感器 定位件 光刻机 直角边 光刻 卡槽 移动位置信息 偏移现象 直角顶点 传感器 两组 适配 小板 延伸 应用 制作 检查
【主权项】:
1.小尺寸掩膜版居中性测量检查装置,其特征在于,包括设于光刻机平台(1)上的定位件(2)和三组传感器(3),所述定位件(2)上设有L型直角卡槽与掩膜版(4)的直角边适配接触,其中一组传感器(3)用于测量掩膜版(4)的直角顶点位置信息,另外两组传感器(3)分别用于测量掩膜版(4)在沿L型直角卡槽的两条直角边延伸方向上的移动位置信息。
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