[实用新型]一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置

摘要

本实用新型涉及晶片清洗附属装置的技术领域，特别是涉及一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置，其可以方便同时对大量的碳化硅晶片进行清洗，提高实用性；并且可以方便对清洗下的杂质等进行收集处理，降低使用局限性；包括清洗箱、四组支腿、传输管和传输泵；还包括放置箱、前支撑板、后支撑板、两组前连接杆、两组后连接杆、两组前滑轮、两组后滑轮、前限位板和后限位板；还包括出液管、连接软管、接收箱、固定板、过滤布袋、四组连接轴和四组滚轮，出液管顶端与清洗箱底部中央区域连通，并在出液管上设置有开关阀，连接软管两端分别与接收箱右侧壁底部和传输管输入端连通，传输管与清洗箱右侧壁之间设置有多组固定轴。

主权项

1.一种用于碳化硅晶片研磨后的清洗装置，包括清洗箱(1)、四组支腿(2)、传输管(3)和传输泵(4)，清洗箱(1)内设置有清洗腔，并在清洗箱(1)顶部设置有取放口，取放口与清洗腔相通，四组支腿(2)顶端分别与清洗箱(1)底部左前侧、左后侧、右前侧和右后侧连接，传输泵(4)安装在传输管(3)上，传输管(3)输出端位于清洗箱(1)上方区域；其特征在于，还包括放置箱(5)、前支撑板(6)、后支撑板、两组前连接杆(7)、两组后连接杆、两组前滑轮(8)、两组后滑轮、前限位板(9)和后限位板，所述放置箱(5)内设置有放置腔，并在放置箱(5)顶部设置有放置口，放置口与放置腔相通，所述放置箱(5)底部设置有多组通孔，所述前支撑板(6)和后支撑板分别安装在放置箱(5)前侧壁和后侧壁上半区域，所述两组前连接杆(7)和两组后连接杆顶端分别与前支撑板(6)和后支撑板底部连接，所述清洗箱(1)顶部前半区域和后半区域分别设置有两组滑槽，所述两组前滑轮(8)和两组后滑轮分别位于两组滑槽内，所述前限位板(9)和后限位板分别安装在两组滑槽内上半区域，并在前限位板(9)和后限位板上分别设置有两组滑动孔，所述两组前连接杆(7)和两组后连接杆分别穿过两组滑动孔并分别与两组前滑轮(8)和两组后滑轮可转动连接；还包括出液管(10)、连接软管(11)、接收箱(12)、固定板(13)、过滤布袋(14)、四组连接轴(15)和四组滚轮(16)，所述出液管(10)顶端与清洗箱(1)底部中央区域连通，并在出液管(10)上设置有开关阀(17)，所述接收箱(12)内设置有接收腔，并在接收箱(12)顶部设置有接收口，接收口与接收腔相通，所述固定板(13)安装在接收箱(12)内上半区域，并在固定板(13)中央区域设置有过料孔，所述过滤布袋(14)穿过过料孔，并且过滤布袋(14)顶部固定安装在过料孔内壁上，所述四组连接轴(15)分别安装在接收箱(12)底部左前侧、左后侧、右前侧和右后侧，所述四组滚轮(16)分别可转动安装在四组连接轴(15)底端，连接软管(11)两端分别与接收箱(12)右侧壁底部和传输管(3)输入端连通，所述传输管(3)与清洗箱(1)右侧壁之间设置有多组固定轴(18)。