[实用新型]一种无掩光刻镜头对焦系统有效
申请号: | 201920325754.2 | 申请日: | 2019-03-14 |
公开(公告)号: | CN209560268U | 公开(公告)日: | 2019-10-29 |
发明(设计)人: | 徐占辉;张晓辉;刘涛;刘景华;尹建刚;高云峰 | 申请(专利权)人: | 大族激光科技产业集团股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00;G02B7/28 |
代理公司: | 深圳众鼎专利商标代理事务所(普通合伙) 44325 | 代理人: | 黄章辉 |
地址: | 518000 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种无掩光刻镜头对焦系统,包括光源、分光镜、反射型光调制器、光刻镜头以及光强测试模块;分光镜用于将光源出射的输出光线透射到反射型光调制器上,以及用于将反射型光调制器反射的测试光线反射向光强测试模块;反射型光调制器设置在光刻镜头的一焦平面上;反射型光调制器用于将分光镜透射的输出光线反射到光刻镜头中,以及用于将光刻镜头聚焦的测试光线反射向分光镜;光刻镜头用于将反射型光调制器反射的输出光线聚焦到感光基板上,以及用于将感光基板反射的测试光线聚焦至反射型光调制器;光强测试模块用于测试光强,实现对无掩光刻镜头进行快速对焦,提高无掩光刻镜头对焦精度以及减少显影耗材消耗。 | ||
搜索关键词: | 光刻 反射型光调制器 反射 分光镜 镜头 光强测试模块 测试光线 镜头对焦 输出光线 感光基板 聚焦 透射 光源 本实用新型 测试光强 快速对焦 焦平面 出射 耗材 显影 消耗 | ||
【主权项】:
1.一种无掩光刻镜头对焦系统,其特征在于,包括光源、分光镜、反射型光调制器、光刻镜头以及光强测试模块;所述分光镜用于将所述光源出射的输出光线透射到所述反射型光调制器上,以及用于将所述反射型光调制器反射的测试光线反射向所述光强测试模块;所述反射型光调制器设置在所述光刻镜头的一焦平面上;所述反射型光调制器用于将所述分光镜透射的输出光线反射到所述光刻镜头中,以及用于将所述光刻镜头聚焦的测试光线反射向所述分光镜;所述光刻镜头用于将所述反射型光调制器反射的输出光线聚焦到感光基板上,以及用于将感光基板反射的测试光线聚焦至所述反射型光调制器;所述光强测试模块用于测试光强。
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