[实用新型]一种LPCVD反应室的工艺气体注入系统

摘要

本实用新型公开了一种LPCVD反应室的工艺气体注入系统，包括分别与反应室连通的第一进气管路和第二进气管路，所述第一进气管路设有第一常闭气动阀，所述第二进气管路设有常闭气动阀和第二常开气动阀，所述常闭气动阀位于第二常开气动阀的上游，所述第一常闭气动阀与第二常开气动阀互锁。本实用新型在通入反应室的反应气体进气管道上常开气动阀，将其与氧气进气管路上的常闭气动阀进行互锁保护，当进行氧化硅工艺时，氧气进入反应室，易燃易爆的反应气体(如硅烷和易燃的磷烷)无法进入反应室；而当进行氮化硅、多晶硅工艺时，反应气体(如硅烷和磷烷)进入反应室，而助燃剂氧气无法进入反应室，避免了燃爆现象的出现。

主权项

1.一种LPCVD反应室的工艺气体注入系统，其特征在于：包括分别与反应室(1)连通的第一进气管路(2)和第二进气管路(3)，所述第一进气管路(2)设有第一常闭气动阀(21)，所述第二进气管路(3)设有常闭气动阀和第二常开气动阀(31)，所述常闭气动阀(4)位于第二常开气动阀(31)的上游，所述第一常闭气动阀(21)与第二常开气动阀(31)互锁。/n