[实用新型]一种用于管式PECVD机台内部的多功能托板有效
| 申请号： | 201920396371.4 | 申请日： | 2019-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN210085577U | 公开（公告）日： | 2020-02-18 |
| 发明（设计）人： | 张浩 | 申请（专利权）人： | 通威太阳能（成都）有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/50 | 分类号： | C23C16/50;H01L31/18 |
| 代理公司： | 成都弘毅天承知识产权代理有限公司 51230 | 代理人： | 汤春微 |
| 地址： | 610299 四川省成都市双流*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于管式PECVD机台内部的多功能托板，涉及PECVD辅助设备技术领域，本实用新型包括托板本体，托板本体的材质为铝合金，托板本体的一侧面设置有若干散热片，托板本体内部开设有一条可通入冷却介质的冷却通道，冷却通道整体呈曲折线型布置，本实用新型具有散热功能、承重能力强、实用性高的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 pecvd 机台 内部 多功能 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
