[实用新型]光阻喷嘴装置有效

专利信息
申请号: 201920414839.8 申请日: 2019-03-28
公开(公告)号: CN209433178U 公开(公告)日: 2019-09-24
发明(设计)人: 李明欣;张祥平;古哲安;黄志凯;叶日铨 申请(专利权)人: 德淮半导体有限公司
主分类号: G03F7/16 分类号: G03F7/16;G03F7/42;B05B9/03;B05B15/55
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 余明伟
地址: 223300 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型提供一种光阻喷嘴装置,所述光阻喷嘴装置包括:喷嘴,通过所述喷嘴向晶圆喷涂光阻溶液;供料结构,所述供料结构包括供料控制阀,所述供料结构与所述喷嘴相连接,通过所述供料结构为所述喷嘴提供所述光阻溶液;清洗结构,所述清洗结构包括清洗控制阀,通过所述清洗结构为所述喷嘴提供清洗溶液。本实用新型的光阻喷嘴装置,通过清洗结构,可去除位于所述喷嘴中的光阻溶液及光阻溶液的凝结物,从而可提高光阻喷涂均匀性、减少喷涂不良,以减少rework,降低成本,提高成品率;且通过回吸结构的回吸及移动式光阻喷嘴装置,可进一步的提高产品良率。
搜索关键词: 喷嘴 供料 光阻喷嘴 光阻溶液 清洗结构 本实用新型 回吸 喷涂 清洗控制阀 产品良率 喷涂均匀 喷嘴装置 清洗溶液 移动式光 成品率 可去除 控制阀 凝结物 光阻 晶圆
【主权项】:
1.一种光阻喷嘴装置,其特征在于,所述光阻喷嘴装置包括:喷嘴,通过所述喷嘴向晶圆喷涂光阻溶液;供料结构,所述供料结构包括供料控制阀,所述供料结构与所述喷嘴相连接,通过所述供料结构为所述喷嘴提供所述光阻溶液;清洗结构,所述清洗结构包括清洗控制阀,通过所述清洗结构为所述喷嘴提供清洗溶液。
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