[实用新型]一种光学投影断层成像系统有效

专利信息
申请号: 201920423748.0 申请日: 2019-03-29
公开(公告)号: CN209727807U 公开(公告)日: 2019-12-03
发明(设计)人: 段美玲;李晋红;李亦军;闫仕农 申请(专利权)人: 中北大学
主分类号: G01N23/046 分类号: G01N23/046;G01N21/64
代理公司: 37232 济南千慧专利事务所(普通合伙企业) 代理人: 姜月磊<国际申请>=<国际公布>=<进入
地址: 030051*** 国省代码: 山西;14
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摘要: 本申请提供了一种光学投影断层成像系统,包括:光源模块、样品承载模块、信号采集模块和控制模块,还包括用于调整光源的调节装置,所述调节装置与所述光源模块配合设置,所述光源模块中包括外壳,所述外壳靠近所述样品承载模块的一侧设置有光源出口,所述调节装置设置于所述光源出口上。本申请中利用调节装置对光源进行调节,通过调节装置使得照射在样品上的光源的亮度,方向,光照范围是可以根据实际可调节的,有利于获得更好的成像效果。
搜索关键词: 调节装置 光源模块 光源 光源出口 样品承载 光学投影断层成像 信号采集模块 成像效果 控制模块 配合设置 可调节 申请 光照 照射
【主权项】:
1.一种光学投影断层成像系统,包括:光源模块、样品承载模块、信号采集模块和控制模块,其特征在于,还包括用于调整光源的调节装置,所述调节装置与所述光源模块配合设置,所述光源模块中包括外壳,所述外壳靠近所述样品承载模块的一侧设置有光源出口,所述调节装置设置于所述光源出口上。/n
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