[实用新型]一种平板式PECVD设备微波离子源工艺气体喷气装置有效
| 申请号： | 201920427283.6 | 申请日： | 2019-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN210012901U | 公开（公告）日： | 2020-02-04 |
| 发明（设计）人： | 陈国钦;张威;杨彬;唐电;吴易龙;李建志 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
| 主分类号： | C23C16/513 | 分类号： | C23C16/513;C23C16/455 |
| 代理公司： | 43008 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) | 代理人： | 周长清;徐好 |
| 地址： | 410111 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种平板式PECVD设备微波离子源工艺气体喷气装置，包括多个沿Y轴方向布置的离子源，离子源中包含多根送气管，送气管上沿X轴方向设有多个喷气孔，所有输送相同工艺气体的喷气孔的X轴坐标各不相同且叠加后成等间距布置。本实用新型的喷气装置由于同样长度上喷气孔的数量增加很多，也就使两个喷气点之间的间距很小，相当于在同样长度的喷气管上成倍的增加了喷气孔的数量，而且是等距分布，类似于整根送气管的喷气是一条线性状态，所以气体是非常均匀的。 | ||
| 搜索关键词： | 喷气孔 送气管 本实用新型 工艺气体 喷气装置 离子源 等间距布置 微波离子源 等距分布 线性状态 喷气管 平板式 叠加 | ||
【主权项】：
1.一种平板式PECVD设备微波离子源工艺气体喷气装置，包括多个沿Y轴方向布置的离子源(3)，所述离子源(3)中包含多根送气管(1)，所述送气管(1)上沿X轴方向设有多个喷气孔(2)，其特征在于：所有离子源(3)中输送相同工艺气体的喷气孔(2)的X轴坐标各不相同且叠加后成等间距布置。/n
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
