[实用新型]用于基质辅助激光解析离子源型质谱仪的靶板定位机构有效
申请号: | 201920452213.6 | 申请日: | 2019-04-04 |
公开(公告)号: | CN209374399U | 公开(公告)日: | 2019-09-10 |
发明(设计)人: | 宋家玉;蔡克亚;刘伟伟;李康康;张子奇;王晓龙;刘文钊;易玲;李闯 | 申请(专利权)人: | 安图实验仪器(郑州)有限公司 |
主分类号: | H01J49/16 | 分类号: | H01J49/16;H01J49/26 |
代理公司: | 郑州异开专利事务所(普通合伙) 41114 | 代理人: | 王霞 |
地址: | 450016 河南省郑*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种用于基质辅助激光解析离子源型质谱仪的靶板定位机构,包括靶拖,靶拖安装面内凹形成用于卡装靶板的安装凹槽,在靠近所述安装凹槽拐角处的安装凹槽短边上设置有横向定位结构、安装凹槽长边上设置有纵向定位结构。本实用新型结构简单,实现了靶板的精确定位,规范了靶板放置动作过程,实现了MALDI‑TOF工作过程中靶板的自由更换,降低了人为因素的干扰,保证了样品的正常检测,降低了仪器的故障率。 | ||
搜索关键词: | 靶板 安装凹槽 基质辅助激光解析 本实用新型 定位机构 离子源 质谱仪 横向定位结构 动作过程 人为因素 自由更换 纵向定位 安装面 故障率 拐角处 卡装 内凹 检测 保证 | ||
【主权项】:
1.一种用于基质辅助激光解析离子源型质谱仪的靶板定位机构,包括靶拖(1),所述靶拖(1)的安装面内凹形成用于卡装靶板(2)的安装凹槽(3),其特征在于:在靠近所述安装凹槽(3)拐角处的安装凹槽(3)短边上设置有横向定位结构、安装凹槽(3)长边上设置有纵向定位结构。
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