[实用新型]单银low-e中空玻璃磁控溅射镀膜机

摘要

本实用新型公开了一种单银low‑e中空玻璃磁控溅射镀膜机，包括机台、设置在机台上的真空室，真空室其上部设置至少二十个阴极靶，与真空室连接设有呈波纹管形式的抽气管，抽气管的另一端与分子泵相连，分子泵通过呈波纹管形式的连接管与罗茨泵相连；真空室底部中心位置转动设有样品台，样品台下部设有加热源；真空室底板上固定连接有至少三块蒸镀膜收集板，蒸镀膜收集板上固定连接加热隔板。本实用新型在单银low‑e中空玻璃生产线上的磁控溅射镀膜机中增加了阴极位，使得本实用新型其镀膜的膜系增加，实现多腔群集式磁控镀膜的同时能够对溅射靶形成有效保护、减少靶材之间的交叉污染、提高沉膜质量。