[实用新型]在薄膜上生成微纳米多孔结构的设备有效
| 申请号： | 201920570946.X | 申请日： | 2019-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN210026291U | 公开（公告）日： | 2020-02-07 |
| 发明（设计）人： | 郭四平;周永俊 | 申请（专利权）人： | 常州三提新材料有限公司 |
| 主分类号： | B29C59/16 | 分类号： | B29C59/16;B65H23/26;B82Y40/00;B29L7/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 213000 江苏省常州市武*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及SLIPS材料制备领域，尤其涉及一种在薄膜上生成微纳米多孔结构的设备。其中设备包括：滚筒，其具有空腔，在所述空腔内设置有磁性元件；输送机构用于将薄膜输送到滚筒；加热器，其设置于滚筒外侧；以及颗粒轰击装置，其设置于滚筒外侧，用于在磁场作用下，向所述滚筒上的薄膜以超音速喷射微纳米颗粒；其中，所述加热器和颗粒轰击装置沿所述薄膜的输送路径依次设置，所述磁性元件用于向所述颗粒轰击装置与所述滚筒外表面之间的区域提供磁场。本实用新型能在薄膜表面形成呈自然形态分布的微纳米多孔结构。 | ||
| 搜索关键词： | 滚筒 轰击 薄膜 加热器 本实用新型 磁性元件 多孔结构 微纳米 空腔 材料制备领域 超音速喷射 滚筒外表面 微纳米颗粒 薄膜表面 薄膜输送 磁场作用 区域提供 输送机构 输送路径 依次设置 自然形态 磁场 | ||
【主权项】：
1.一种在薄膜上生成微纳米多孔结构的设备，其特征在于，包括/n滚筒(100)，其具有空腔(110)，在所述空腔内设置有磁性元件(120)；/n输送机构(200)，用于输送薄膜(10)；/n加热器(300)，其设置于滚筒(100)外侧，用于对滚筒(100)外的薄膜(10)加热；以及/n颗粒轰击装置(400)，其设置于滚筒(100)外侧，用于在磁场作用下，向所述滚筒(100)上的薄膜(10)以超音速喷射微纳米颗粒；/n其中，所述加热器(300)和颗粒轰击装置(400)沿所述薄膜(10)的输送路径依次设置，所述磁性元件(120)用于向所述颗粒轰击装置(400)与所述滚筒(100)外表面之间的区域提供磁场。/n
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