[实用新型]一种电镀机台腔体结构及电镀机台有效

专利信息
申请号: 201920657232.2 申请日: 2019-05-08
公开(公告)号: CN210012914U 公开(公告)日: 2020-02-04
发明(设计)人: 秦杰;王金岗;薛超;林宗贤 申请(专利权)人: 德淮半导体有限公司
主分类号: C25D7/12 分类号: C25D7/12;C25D3/38;C25D17/02;C25D21/00
代理公司: 31295 上海思捷知识产权代理有限公司 代理人: 王宏婧
地址: 223300 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型提供了一种电镀机台腔体结构及电镀机台,所述腔体结构包括腔体本体;所述腔体本体内设有隔膜和金属阳极,所述隔膜和所述金属阳极平行设置;所述隔膜与至少一组驱动组件相连,所述驱动组件用于驱动所述隔膜沿所述腔体本体的轴向往复移动;所述隔膜远离其中心的边缘位置为能够阻挡阳离子通过的封闭结构。所述电镀机台包括上述的腔体结构。本实用新型提供的电镀机台腔体结构及电镀机台能够有效减少电镀过程中的边缘效应,提高沉积在晶圆表面的金属薄膜厚度的均匀性。
搜索关键词: 电镀 机台 隔膜 腔体结构 腔体本体 本实用新型 金属阳极 驱动组件 轴向往复移动 边缘位置 边缘效应 封闭结构 金属薄膜 晶圆表面 平行设置 有效减少 均匀性 阳离子 沉积 阻挡 驱动
【主权项】:
1.一种电镀机台腔体结构,其特征在于,包括腔体本体;/n所述腔体本体内设有隔膜和金属阳极,所述隔膜和所述金属阳极平行设置;/n所述隔膜与至少一组驱动组件相连,所述驱动组件用于驱动所述隔膜沿所述腔体本体的轴向往复移动;/n所述隔膜远离其中心的边缘位置为能够阻挡阳离子通过的封闭结构。/n
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