[实用新型]光学器件表面清洁装置及扫描检查系统有效

专利信息
申请号: 201920671159.4 申请日: 2019-05-10
公开(公告)号: CN210023081U 公开(公告)日: 2020-02-07
发明(设计)人: 李柯;许艳伟;孟德芳;叶立超;喻卫丰;胡煜;宗春光;孙尚民 申请(专利权)人: 同方威视技术股份有限公司;同方威视科技(北京)有限公司
主分类号: B08B5/02 分类号: B08B5/02;G01N21/94
代理公司: 11038 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 张文超;颜镝
地址: 100084 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型涉及一种光学器件表面清洁装置及扫描检查系统,其中,光学器件表面清洁装置包括:吹气部件(5),导流面(53)吹气部件(5)上设有吹气口(53),导流面(53)吹气口(53)朝向光学器件的待清洁表面(6)设置;以及气源组件,被配置为向导流面(53)吹气部件(5)提供压缩气体,以使压缩气体通过导流面(53)吹气口(53)吹向导流面(53)待清洁表面(6)进行除污。此种清洁装置利用吹出压缩空气的方式,能够对光学器件表面进行自动清洁,可降低光学器件的维护成本和维护难度,并降低光学器件的误检测率,从而提升设备的使用效率,提升客户对设备的使用体验。
搜索关键词: 光学器件表面 吹气部件 光学器件 清洁装置 吹气口 导流面 待清洁表面 压缩气体 流面 本实用新型 气源组件 扫描检查 使用效率 提升设备 压缩空气 自动清洁 对设备 误检测 除污 吹出 维护 客户 配置
【主权项】:
1.一种光学器件表面清洁装置,其特征在于,包括:/n吹气部件(5),所述吹气部件(5)上设有吹气口(53),所述吹气口(53)朝向光学器件的待清洁表面(6)设置;以及/n气源组件,被配置为向所述吹气部件(5)提供压缩气体,以使压缩气体通过所述吹气口(53)吹向所述待清洁表面(6)进行除污。/n
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