[实用新型]一种防止硅片粘连的慢提拉槽体结构有效
申请号: | 201920697192.4 | 申请日: | 2019-05-16 |
公开(公告)号: | CN209461430U | 公开(公告)日: | 2019-10-01 |
发明(设计)人: | 王涛;余波;杨蕾 | 申请(专利权)人: | 通威太阳能(安徽)有限公司 |
主分类号: | H01L21/673 | 分类号: | H01L21/673 |
代理公司: | 昆明合众智信知识产权事务所 53113 | 代理人: | 韦群 |
地址: | 230088 安徽省合*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种防止硅片粘连的慢提拉槽体结构,包括慢提拉槽,所述慢提拉槽内设置有托盘,所述托盘上等距间隔设置有若干隔离板,所述隔离板两侧面均开设有引流槽。所述隔离板两侧面设置的引流槽呈交叉分布,每个侧面的引流槽设置有10‑15根,且引流槽宽度为0.5‑0.7mm,深度为0.3‑0.4mm。本实用新型在不对现有槽体结构与夹具工装进行改变的情况下,简单对慢提拉槽体内的托盘进行改造,增加一组等距间隔的隔离板,并且通过其上开设的引流槽,能够有效防止薄硅片的粘连,提高硅片良品率,实用性很强,非常值得推广。 | ||
搜索关键词: | 提拉槽 引流槽 隔离板 托盘 粘连 硅片 本实用新型 两侧面 体结构 等距间隔设置 槽体结构 等距间隔 夹具工装 交叉分布 薄硅片 良品率 体内 侧面 改造 | ||
【主权项】:
1.一种防止硅片粘连的慢提拉槽体结构,包括慢提拉槽(1),所述慢提拉槽(1)内设置有托盘(2),其特征在于:所述托盘(2)上等距间隔设置有若干隔离板(3),所述隔离板(3)两侧面均开设有引流槽(4)。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造