[实用新型]一种环氧树脂光刻胶SU-8使用的优化系统有效
申请号: | 201920715474.2 | 申请日: | 2019-05-16 |
公开(公告)号: | CN210983027U | 公开(公告)日: | 2020-07-10 |
发明(设计)人: | 潘尧 | 申请(专利权)人: | 苏州锐材半导体有限公司 |
主分类号: | G03F7/16 | 分类号: | G03F7/16;G03F7/20 |
代理公司: | 苏州国卓知识产权代理有限公司 32331 | 代理人: | 薛芳芳 |
地址: | 215000 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种环氧树脂光刻胶SU‑8使用的优化系统,包括进行整体操作过程的无尘间,同时包括用于光刻胶过程的涂胶系统、烘烤系统以及曝光系统三组系统体系,所述无尘间的内部沿水平方向均匀布置有涂胶系统、烘烤系统以及曝光系统三组系统体系,且无尘间的内部位于烘烤系统的一侧放置有除湿机,所述涂胶系统、烘烤系统以及曝光系统三组系统体系均隔离放置,所述除湿机的控制精度为1%。本实用新型所述的一种环氧树脂光刻胶SU‑8使用的优化系统,在使用时能够节约成本,只需添加一步高精度的除湿机即可,并且很好地解决了SU‑8对湿度要求敏感的问题,同时还能与其他普通光刻胶兼用,带来更好的使用前景。 | ||
搜索关键词: | 一种 环氧树脂 光刻 su 使用 优化 系统 | ||
【主权项】:
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