[实用新型]一种射频等离子体氧化氮化设备有效
| 申请号： | 201920737553.3 | 申请日： | 2019-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN210065890U | 公开（公告）日： | 2020-02-14 |
| 发明（设计）人： | 吴鑫龙;殷冀平;蔺增;刘兴龙 | 申请（专利权）人： | 泰安东大新材表面技术有限公司;东北大学 |
| 主分类号： | C23C8/36 | 分类号： | C23C8/36;C23C8/28 |
| 代理公司： | 37221 济南圣达知识产权代理有限公司 | 代理人： | 吕薇 |
| 地址： | 271000 山东省*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种射频等离子体氧化氮化设备，包括射频离子源、真空腔体、气路系统、水路系统和电控系统，所述射频离子源固定在真空腔体一端，射频离子源上设置进气口、进水口和出水口，射频离子源上设置射频线圈和磁场线圈。本设备通过以腔体为中心将各个分系统的组合连接以及腔体的设计，便于参数的控制，便于放置待处理零部件，能够用于若干个零部件的同时处理，便于操作。通过射频电感耦合所产生的高密度低能量的射频等离子体，能够在低温低压环境下稳定维持其放电状态，产生的等离子体全方位地渗透入待处理零部件上以实现均匀的氧化或氮化。 | ||
| 搜索关键词： | 射频离子源 射频等离子体 零部件 氮化 真空腔体 进气口 等离子体 低温低压环境 射频电感耦合 本实用新型 磁场线圈 电控系统 放电状态 气路系统 射频线圈 水路系统 组合连接 出水口 低能量 进水口 腔体 以腔 | ||
【主权项】：
1.一种射频等离子体氧化氮化设备，其特征在于，包括射频离子源、真空腔体、气路系统、水路系统和电控系统，所述射频离子源固定在真空腔体一端，射频离子源上设置进气口、进水口和出水口，射频离子源上设置射频线圈和磁场线圈，在真空腔体达到一定的真空度时，通入气体，启动射频离子源即可由射频离子源产生的射频等离子体；/n所述水路系统设置在包含射频离子源的真空腔体的一侧；所述电控系统设置在所述水路系统的另一侧，将电控系统、水路系统和射频离子源划分成独立的区域；/n所述气路系统包括气体管道、气体气瓶和质量流量控制器，所述射频离子源上的进气口通过气体管道连接至气体气瓶，在气体管道上接有质量流量控制器控制气体流量；/n所述水路系统包括水循环系统和导水管，进水口和出水口通过导水管接通水循环系统对射频离子源进行冷却。/n
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