[实用新型]碳化硅晶片用陶瓷盘的平面度修复装置有效
申请号: | 201920741063.0 | 申请日: | 2019-05-22 |
公开(公告)号: | CN209998980U | 公开(公告)日: | 2020-01-31 |
发明(设计)人: | 郑东;王鑫 | 申请(专利权)人: | 青岛鑫嘉星电子科技股份有限公司 |
主分类号: | B24B53/02 | 分类号: | B24B53/02;B24B57/02 |
代理公司: | 37212 青岛发思特专利商标代理有限公司 | 代理人: | 巩同海 |
地址: | 266114 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种碳化硅晶片用陶瓷盘的平面度修复装置,属于陶瓷盘平整度修复技术领域。其技术方案为:包括转动加工盘、阻挡组件和研磨液喷射器;所述阻挡组件包括悬挂臂;所述悬挂臂的一端固定在支撑柱上,另一端悬在转动加工盘的上方;所述悬挂臂悬在转动加工盘上方的一端设有弧形的阻挡臂,以阻挡陶瓷盘随转动加工盘一起转动;所述阻挡臂的两端分别设有滚轮,以使陶瓷盘能够在转动加工盘上自转;所述研磨液喷射器用于向转动加工盘的盘面上喷射研磨液。本实用新型一方面可以节省人工成本,且修复的陶瓷盘平面度精度高、表面粗糙度一致性好。另一方面,可以有效地减少加工设备及工序,大大降低了成本,也提高了加工效率。 | ||
搜索关键词: | 转动加工盘 陶瓷盘 悬挂臂 研磨液 本实用新型 阻挡组件 喷射器 平面度 阻挡臂 表面粗糙度 碳化硅晶片 有效地减少 修复 加工设备 加工效率 人工成本 修复装置 一致性好 平整度 支撑柱 滚轮 自转 喷射 转动 阻挡 | ||
【主权项】:
1.一种碳化硅晶片用陶瓷盘的平面度修复装置,其特征在于:/n包括转动加工盘(1)、阻挡组件和研磨液喷射器(2);/n所述阻挡组件包括悬挂臂(3);/n所述悬挂臂(3)的一端固定,另一端悬在转动加工盘(1)的上方;/n所述悬挂臂(3)悬在转动加工盘(1)上方的一端设有弧形的阻挡臂(4),以阻挡陶瓷盘随转动加工盘(1)一起转动;/n所述阻挡臂(4)的两端分别设有滚轮(5),以使陶瓷盘能够在转动加工盘(1)上自转;/n所述研磨液喷射器(2)用于向转动加工盘(1)的盘面上喷射研磨液。/n
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